《铸造技术》

文章标题:电子束层覆凝固层厚对GH4068铸态组织和 合金元素偏析行为的影响

文章作者:陈瑶瑶1,2,谭 毅1,2,白如圣1,2,宁莉丹1,2,崔传勇3,李鹏廷1,2
关 键 字:GH4068;电子束熔炼;层覆凝固;组织形貌;元素偏析
文章摘要:
利用电子束层覆凝固的工艺方法制备GH4068,并研究不同层覆凝固厚度对样品组织和元素偏析的影响。 结果表明,层覆凝固厚度为5.2mm(533g)的样品元素挥发程度最严重,整体组织由底部粗大无序晶粒和其余部分连续 柱状晶组成。 层覆凝固厚度为7.8mm的样品层间出现细晶层,其显微硬度最高可以达到452.2HV。 层覆凝固厚度为 15.5 mm 的样品因层覆厚度太大导致电子束熔透能力不足从而出现层间间隙。 在控制元素挥发程度前提下,层覆凝固 厚度为7.8mm的铸锭偏析程度最小且二次枝晶间距最小。偏析最严重的元素为Ti和W,相比于传统双联熔炼工艺,电 子束层覆熔炼制备的样品W和Ti偏析程度分别降低11.2%和6.65%。 综上,最佳层覆厚度为7.8mm。