《铸造技术》
文章标题:磁场作用下硅晶体生长的应用研究现状
文章作者:
饶森林 张发云 罗玉峰 熊含梦 李云明 胡云 章娟
关 键 字:
磁场 晶体硅 固液界面 熔体流动
文章摘要:
针对静态磁场和非静态磁场在硅晶体生长中的应用研究现状,综述了磁场对硅晶体生长过程中熔体流动、固液界面形态、杂质含量及分布的影响,重点对比分析了静态磁场与非静态磁场的特点。总结了该应用当前存在的问题,并对未来的技术发展进行了展望。
暂无DOC全文下载
点击下载PDF全文
返回卷期目录