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文章作者：徐飞布国亮杨万朋成佳佳肖夫兰
关键字：磁控溅射高纯铬靶材研究现状发展趋势
文章摘要：

介绍了纯铬靶材的主要制备工艺流程及研究现状,介绍了采用热等静压方法制备的纯铬靶材圆柱体致密度高达99.86%,晶粒细小、溅射性能优异;阐述了高纯溅射铬靶材的特性,分析了高纯铬靶材存在的问题;探讨和展望了高纯铬溅射靶材的发展趋势。