文章标题：因瓦合金超光滑表面加工的研究

文章作者：王 婉 1 ，王志军 1 ，马晓康 1 ，周 青 1 ，许 泉 2 ，王永杰 3 ，傅建明 2
关 键 字：因瓦合金；抛光；精密加工；表面形貌；表面粗糙度
文章摘要：为了实现因瓦合金高质量表面的超精密加工，提高因瓦合金的抛光质量，基于多层级纳米抛光技术对因瓦 合金进行了表面质量研究。 通过不锈钢抛光盘和自动抛光机对因瓦合金进行粗磨、细磨、粗抛和细抛，并采用光学轮廓 仪、三维轮廓仪、残余应力测试仪和 X 射线光电子能谱仪(XPS)对 4 个抛光阶段下因瓦合金的表面形貌、表面粗糙度、残 余应力和表面化学状态等方面进行分析，进一步探究因瓦合金逐级加工过程中的表面组分及状态。 结果表明，逐级加工 可以将因瓦合金的表面粗糙度降至 5 nm 以下，大幅度提高工件表面质量，实现合金表面超光滑状态。抛光过程中 工 件 表面的残余应力主要为压应力，且残余应力随着抛光精度的提升逐渐降低，但切应力始终维持在一个较低的 水平。 X 射线光电子能谱分析结果表明，抛光后工件表面部分 Ni 和 Fe 原子以+2 价的氧化状态存在，占所有原子 数的 21.86%左右。 通过多层级抛光技术实现了 5 nm 以内的表面粗糙度，对因瓦合金超精密加工工艺和提高成品质量 具有重要的意义。